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  沈阳聚智真空设备有限公司是专业从事真空镀膜技术的民营高科技股份集团公司。

  公司现有员工80多人,80的员工拥有大学以上学历,设计人员32人,高级工程师20多人,其中真空事业部有中国真空学会高级会员2人。本公司业务领域涉及真空产品设计制造、薄膜技术、真空电子产品的设计制造、真空应用工程;自动控制系统及智能控制软件的开发设计。公司拥有20多项国家专利。

  公司下设真空机械厂,厂房2000多平方米,有数控机床若干,普通机床若干,其它如超高真空检漏仪、氩弧焊机、等离子切割机、剪板机、喷沙机、超声波清洗机等,设备齐全,加工能力强,能够满足工期和质量要求。

  公司既有薄膜技术和半导体工艺技术优势,又有超高真空、自动控制、真空电源、电磁学、电子学的综合优势,技术团队专业特长搭配合理,具备光电子、微电子、薄膜技术和传感器器件的大型综合成套工艺装备技术的设计和生产能力。

  ★在高真空动态样品传递方面,研发成功超高真空机械手(已申报国家发明专利),产品分为两个系列:用于实验设备的小型机械手;用于大型生产线和中试线的机械手。

  ★聚智真空设备有限公司的技术人员,经过10多年的技术研发和工程实践经验,已研发出团簇式全自动运行的PECVD中试生产线设备,在PECVD进气电极板技术上取得突破,并获得国家专利。产品在国内多家用户使用,并在香港和新加坡的国际招标中中标。

  ★我公司为科研高端提供的分子束外延(MBE)设备,包括了高能电子衍射仪技术、直线型电子枪技术、薄膜厚度实时测量监控和计算技术、薄膜分析软件、设备控制系统软件、超高真空技术等。产品已在中国科技大学、浙江大学、新加坡等用户使用,反映良好。

  ★我公司是最早开展有机小分子发光显示(OLED)工艺设备研制的单位,已获得国家实用新型专利一项(专利号:ZL 02211815.2),发明专利一项(ZL 02 1 09706.2 国际专利主分类号:H01L 33/00)。

  ★在光电材料工艺装备方面,我公司设计制造的超高温CVD设备,主要用于生长4H晶型的SiC等高端光电半导体材料与器件,其最高温度可达2000℃。

  ★与教育部发光材料与器件工程研究中心联合研制成功ZnO/GaN-MOCVD工艺设备,已成功生长高质量的ZnO单晶膜,已达到国际水平,膜层生长效率很高(每小时4微米),达到了中试和生产设备的水平;可用该设备生长GaN光电材料,已成功地制造出蓝光、绿光和紫光等发光二极管,处于国内领先地位。

  ★在超高真空技术方面,我公司具有较强的技术优势,已制造的装备真空度最高可达3×10-8Pa量级,如国家同步辐射实验室的MBE、武汉地质大学MBE和浙江大学光电系的MBE分子束外延设备。